 Verfasst am: 18. Apr 2019 10:55 Titel: Herstellung dünner Bilayer-Schichten |
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| Meine Frage: Hi leute, ich muss Bilayer Schichten aus Nickel und Gold mittels e-beam Verdampfen herstellen. Die Gesamtdicke soll 40nm betragen. Ziel dabei ist es eine Gitteranpassung zwischen Substrat (Sapphire) und den Ni-Au-Nanopartikeln (durch Solid-state Dewetting hergestellt) zu bekommen. Dies soll über die Variation des Goldgehaltes geschehen. Hierfür soll das Verhältnis der Schichten z.B. folgendermaßen sein: 28at% Au und 72at% Ni Frage ist nun: Wie komme ich von der Schichtdicke auf at%, bzw von at% auf die Schichtdicke? Meine Ideen: Muss ich hier einfach von at% auf vol% umrechnen und bekomme dann mit Gesamtdicke*vol% den Anteil der jeweiligen Schichtdicke? |
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