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[quote="Astro10"][b]Meine Frage:[/b] Hallo allerseits, in einer Aufgabe geht es um eine ungeladene Kupferminze in einem homogenen el. Feld, das senkrecht zu ihrer Oberfläche steht. In der Lösung steht: das el. Feld, das von einer Flächenladungsdichte [latex]\sigma [/latex] hervorgerufen wird, hat den Betrag [latex]\mathrm{E=\frac{\sigma}{\epsilon_0}}[/latex] In einer anderen Aufgabe geht es um eine dünne, nichtleitende, homogen geladene Kugelschale mit der Ladung [latex]+q[/latex]. Ein kleiner kreisförmiger Stöpsel wird aus der Oberfläche entfernt. Da das Loch sehr klein ist, wird der Auschnitt als eben betrachtet. In der Lösung steht: mit der Flächenladungsdichte [latex] \sigma [/latex] erhält man für das Feld des Lochs [latex] \mathrm{E=\frac{-\sigma}{2\epsilon_0}} [/latex] Das Feld der kleinen Fläche des Lochs hat die gleiche Flächenladungsdichte wie die der Kugelschale, aber mit entgegengesetzter Ladung [latex] -q [/latex] Warum ist in der ersten Aufgabe das el. Feld [latex] \mathrm{E=\frac{\sigma}{\epsilon_0}} [/latex] und in der zweiten Aufgabe [latex] \mathrm{E=\frac{-\sigma}{2\epsilon_0}} [/latex]? Und warum hat die Fläche des Lochs eine negative Ladung? [b]Meine Ideen:[/b] Eine geladene Ebene mit gleichmäßiger Ladungsverteilung verursacht ein homogenes el. Feld: [latex]\vec E=\frac{\sigma}{2 \epsilon_0} \vec e_r [/latex] . Und zwischen zwei Platten mit entgegengesetzten Ladungen und gleichen Ladungsdichten (Plattenkondesator) ist die Feldstärke in positiver x-Richtung: [latex] E_x=E_1+E_2= |\frac{\sigma}{2 \epsilon_0}| + |\frac{\sigma}{2 \epsilon_0}|=\frac{\sigma}{\epsilon_0}[/latex] Das heißt, das el. Feld, das von einer Flächenladungsdichte [latex]\sigma [/latex] hervorgerufen wird, sollte auch den Betrag [latex]\mathrm{E=\frac{\sigma}{2\epsilon_0}}[/latex] haben und nicht wie im Beispiel der Kupferminze [latex]\mathrm{E=\frac{\sigma}{\epsilon_0}}[/latex] .[/quote]
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Nachricht
Astro10
Verfasst am: 15. Nov 2015 02:34
Titel: Kupfermünze in elektrischem Feld
Meine Frage:
Hallo allerseits,
in einer Aufgabe geht es um eine ungeladene Kupferminze in einem homogenen el. Feld, das senkrecht zu ihrer Oberfläche steht.
In der Lösung steht: das el. Feld, das von einer Flächenladungsdichte
hervorgerufen wird, hat den Betrag
In einer anderen Aufgabe geht es um eine dünne, nichtleitende, homogen geladene Kugelschale mit der Ladung
. Ein kleiner kreisförmiger Stöpsel wird aus der Oberfläche entfernt. Da das Loch sehr klein ist, wird der Auschnitt als eben betrachtet.
In der Lösung steht: mit der Flächenladungsdichte
erhält man für das Feld des Lochs
Das Feld der kleinen Fläche des Lochs hat die gleiche Flächenladungsdichte wie die der Kugelschale, aber mit entgegengesetzter Ladung
Warum ist in der ersten Aufgabe das el. Feld
und in der zweiten Aufgabe
?
Und warum hat die Fläche des Lochs eine negative Ladung?
Meine Ideen:
Eine geladene Ebene mit gleichmäßiger Ladungsverteilung verursacht ein homogenes el. Feld:
.
Und zwischen zwei Platten mit entgegengesetzten Ladungen und gleichen Ladungsdichten (Plattenkondesator) ist die Feldstärke in positiver x-Richtung:
Das heißt, das el. Feld, das von einer Flächenladungsdichte
hervorgerufen wird, sollte auch den Betrag
haben und nicht wie im Beispiel der Kupferminze
.